等離子體分為高溫等離子體和低溫等離子體。高溫等離子體只有在溫度足夠高的情況下才能發(fā)生。太陽(yáng)和恒星不斷發(fā)射這種等離子體，低溫等離子電暈機(jī)其粒子溫度高達(dá)數(shù)千萬(wàn)甚至數(shù)億℃，可用于能源領(lǐng)域的可控核聚變；低溫等離子體可在常溫下發(fā)生，其電子溫度可達(dá)數(shù)千甚至數(shù)萬(wàn)℃，可激發(fā)、解離、電離、結(jié)合分子或原子。低溫等離子體可分為熱等離子體和冷等離子體。

2）在IC芯片制造領(lǐng)域，低溫等離子電暈機(jī)真空等離子體設(shè)備加工技術(shù)已經(jīng)成為一種不可替代的成熟加工技術(shù)，我們的低溫等離子體表面處理設(shè)備也可以通過(guò)在芯片上注入離子源或晶圓涂層來(lái)實(shí)現(xiàn)：將氧化膜去除到晶圓表面，有機(jī)物去掩蔽和表面活化等超凈化處理提高晶圓表面的潤(rùn)濕性。3）當(dāng)IC芯片含有引線(xiàn)框時(shí)，將晶圓上的電連接與引線(xiàn)框上的焊盤(pán)連接，然后將引線(xiàn)框焊接到封裝上。

粒子在溫等離子體中的能量一般在幾到幾十電子伏特左右，電暈放電低溫等離子體處理裝置大于高分子材料的結(jié)合鍵能（幾到十電子伏特），可以完全打破有機(jī)大分子的化學(xué)鍵，形成新的鍵；但遠(yuǎn)低于高能放射線(xiàn)，只涉及材料表面，不影響基體的性質(zhì)。在非熱力學(xué)平衡低溫等離子體中，電子具有更高的能量，可以打破材料表面分子的化學(xué)鍵，提高粒子的化學(xué)反應(yīng)活性（高于熱等離子體），而中性粒子的溫度接近室溫。這些優(yōu)點(diǎn)為熱敏性聚合物的表面改性提供了適宜的條件。

等離子清洗機(jī)清除碳化氫后的污垢，電暈放電低溫等離子體處理裝置如油脂、輔助添加劑，有利于粘接，功能耐用穩(wěn)定，堅(jiān)持時(shí)間長(zhǎng)。等離子清洗機(jī)不需要箱體，可直接裝備在生產(chǎn)線(xiàn)上進(jìn)行在線(xiàn)操作。與磨邊機(jī)反向操作相比，操作功率大大跋涉。等離子體清潔器電源：有三個(gè)初級(jí)功率頻率，分別為40kHz、13.56MHz、2.45GHz，其中13.56MHz需要功率匹配裝置，2.45GHz也叫微波等離子體。

低溫等離子電暈機(jī)

離子碰撞加熱了清洗后的物質(zhì)，使其更容易反應(yīng)；選擇40kHz超聲等離子體，加入適當(dāng)?shù)姆磻?yīng)氣體可有效去除除了膠體殘留物、金屬毛刺等，2.45G微波等離子體還經(jīng)常用于科研和實(shí)驗(yàn)室。。首先，讓我們了解一下等離子清洗機(jī)的設(shè)備是什么。Z基等離子體清洗裝置包括四個(gè)主要部件：激勵(lì)電源、真空泵、真空室和響應(yīng)空氣源。

等離子清洗機(jī)可有效用于IC封裝工藝，可有效去除材料表面有機(jī)物殘留、微顆粒污染源、氧化物薄層等，提高工件表面活性，避免粘接分層或虛焊。等離子也將繼續(xù)發(fā)展和擴(kuò)大其應(yīng)用范圍到目前，其制程技術(shù)向LED封裝和LCD行業(yè)推廣勢(shì)在必行。等離子體表面清洗技術(shù)將越來(lái)越廣泛地應(yīng)用于IC封裝領(lǐng)域，并以其優(yōu)異的性能成為21世紀(jì)IC封裝領(lǐng)域的關(guān)鍵生產(chǎn)裝置，成為大規(guī)模生產(chǎn)中提高產(chǎn)品良率和可靠性的重要工序措施，未來(lái)不可或缺。。

1.表面腐蝕，等離子體的作用使原材料表面凹凸不平，增加了表面粗糙度；2.在等離子體作用下，塑料表面出現(xiàn)局部活性原子、氧自由基和不飽和鍵，與等離子體中的活性粒子反應(yīng)，形成新的活性官能團(tuán)。

低溫等離子體在筆舌表面處理中的應(yīng)用；低溫等離子體表面處理技術(shù)的基本原理是改變傳統(tǒng)的水筆表面有機(jī)化學(xué)加工工藝，采用低溫等離子體處理技術(shù)是一種很好的方法。所謂等離子體是化學(xué)物質(zhì)的一種形式。一般情況下，化學(xué)物質(zhì)以固體、液體和混合氣體三種形式存在，但在某些特殊情況下，可以以第四種形式存在，如太陽(yáng)表面的化學(xué)物質(zhì)、地球大氣層電離層中的化學(xué)物質(zhì)等。這些化學(xué)物質(zhì)的形式被稱(chēng)為等離子體形式，也被稱(chēng)為第四種形式的化學(xué)物質(zhì)。

低溫等離子電暈機(jī)

等離子加工：等離子噴槍產(chǎn)生的高溫高速射流可用于焊接、堆焊、噴涂、切割、加熱切割等機(jī)械加工。等離子弧焊比鎢極氬弧焊快得多。1965年問(wèn)世的微等離子弧焊接，電暈放電低溫等離子體處理裝置焊炬尺寸僅為2～3毫米，可用于加工非常精細(xì)的工件。等離子弧堆焊可在零件上堆焊耐磨、耐腐蝕、耐高溫合金，用于加工各種特殊閥門(mén)、鉆頭、刀具、模具、機(jī)軸等。

對(duì)于低頻端的射頻放電，低溫等離子電暈機(jī)除重離子外，等離子體中其他粒子的運(yùn)動(dòng)都能跟上射頻電磁場(chǎng)的變化；對(duì)于高頻射頻放電，只有等離子體中的電子能響應(yīng)射頻電磁場(chǎng)的變化，而離子由于慣性大，只能響應(yīng)時(shí)均電場(chǎng)。在射頻的整個(gè)波段內(nèi)，電子能立即響應(yīng)射頻場(chǎng)的變化。特別地，13.56MHz頻率及其諧波頻率通常用于工業(yè)和醫(yī)學(xué)，而其他RF頻率被分配到通信領(lǐng)域?？臻g等離子體推進(jìn)器中使用的螺旋波等離子體源也工作在射頻頻段，通常為13.56MHz。