真空等離子機(jī)為您介紹等離子體處理腔體類型和結(jié)構(gòu)：之前介紹了PEF等離子體處理裝置的基本原理、典型模型及影響因素等內(nèi)容，湖南真空等離子處理設(shè)備公司并指出PEF等離子體的性能對處理效果有很大影響。接著，重點(diǎn)介紹了PEF真空等離子機(jī)腔體的主要類型和結(jié)構(gòu)。從目前的處理室類型來看，常用的處理室有平板、同軸和同場三種。

  （3）在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，真空等離子處理設(shè)備公司使氣體被擊穿，并通過輝光放電而發(fā)生離子化和產(chǎn)生等離子體。讓在真空室產(chǎn)生的等離子體完全籠罩在被處理工件，開始清洗作業(yè)。一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾分鐘。  （4）清洗完畢后切斷高頻電壓，并將氣體及汽化的污垢排出，同時(shí)向真空室內(nèi)鼓入氣體，并使氣壓升至一個(gè)大氣壓。。

活性等離子體對被清洗物表面進(jìn)行物理轟擊和化學(xué)反應(yīng)，真空等離子處理設(shè)備公司使被清洗物表面物質(zhì)變成顆粒和氣態(tài)物質(zhì)，抽真空排出，達(dá)到清洗目的。

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公司低溫等離子處理設(shè)備的優(yōu)勢低溫等離子的電離率低，電子溫度遠(yuǎn)高于離子溫度，離子溫度甚至可??以匹配室溫。因此，冷等離子體是一種非熱平衡等離子體，冷等離子體具有比普通化學(xué)反應(yīng)更多樣化、更活躍、更容易接觸的許多活性粒子。它用于修改材料表面，因?yàn)樗鼤诓牧媳砻嬉鸱瓷洹Ｅc傳統(tǒng)方法相比，等離子表面處理具有成本低、無浪費(fèi)、無污染等顯著優(yōu)勢。同時(shí)，可以獲得常規(guī)化學(xué)方法無法達(dá)到的處理效果。

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