等離子表面處理設(shè)備去膠法等離子表面處理機(jī)去膠法，除膠氣體為氧氣。該方法通過(guò)將電路板置于真空反應(yīng)系統(tǒng)中，通入少量氧氣，再加上高頻高壓，由高頻信號(hào)發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號(hào)，在石英管中形成較強(qiáng)的電磁場(chǎng)，將氧離子化，形成氧離子、活化氧原子、氧分子和電子等混合物質(zhì)的輝光柱?；钚匝?活性原子態(tài)氧)能快速將殘留的膠氧化為揮發(fā)性氣體，并進(jìn)行揮發(fā)帶走。
電路板上面的殘留物被抽走后，電路板就會(huì)清洗干凈了。等離子表面處理機(jī)去膠的優(yōu)點(diǎn)是去膠操作簡(jiǎn)單，去膠效率高，表面清潔光潔，無(wú)劃痕，成本低，環(huán)保。等離子表面處理機(jī)去膠機(jī)加工是微細(xì)加工的重要環(huán)節(jié)，在電子束曝光、紫外曝光等微細(xì)納米加工后，都需要對(duì)光刻膠進(jìn)行去除或打底膜處理。去除了光刻膠的干凈程度對(duì)樣品是否存在損壞等問(wèn)題，將直接影響后續(xù)工藝的順利實(shí)施。等離子表面處理設(shè)備去膠法00224761