真空等離子清洗機(jī)清洗工作流程及其示意圖真空等離子清洗機(jī)其清洗機(jī)理是，在真空環(huán)境下，氧、氫或氬等工藝氣體，在高壓交變電場(chǎng)（由機(jī)器本身的射頻電源產(chǎn)生）的作用下生成活性很高或能量很高的離子，在接觸到被清洗的基材表面的有機(jī)雜質(zhì)或者細(xì)小的顆粒，就會(huì)發(fā)生碰撞或產(chǎn)生化學(xué)與物理上的反應(yīng)，從而生成能夠揮發(fā)的物質(zhì)，經(jīng)由機(jī)器中的真空泵以及工作氣流排出，從而將基材表面清洗干凈，它能夠完成部分或整體或復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清潔，尤其適用于半導(dǎo)體、氧化物、金屬和大部分的高分子材質(zhì)的物體，優(yōu)異于其它方式清洗的就是清洗完成后不會(huì)產(chǎn)生廢液。真空等離子清洗機(jī)清洗工作流程如下：
(1)打開艙門將被清洗的材料放到托盤上送入真空腔室并加以固定，設(shè)定好，氣體流量，清洗時(shí)間，功率等主要參數(shù)，啟動(dòng)運(yùn)行裝置，開始抽真空，使真空室內(nèi)的真空程度達(dá)到30Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般抽真空時(shí)間大約需要幾分鐘。
(2)真空腔體內(nèi)開始通入等離子清洗用的氣體，并使其壓力保持在30Pa。
(3)在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并通過輝光放電而發(fā)生離子化和產(chǎn)生等離子體。讓在真空腔體產(chǎn)生的等離子體完全籠罩住被處理材料上，開始清洗作業(yè)。一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾分鐘不等。
(4)清洗完畢后點(diǎn)擊清洗完畢確認(rèn)按鈕，同時(shí)向真空室內(nèi)鼓入空氣開始破真空，并使氣壓升至一個(gè)大氣壓。待腔體內(nèi)部氣壓恢復(fù)到大氣壓后打開艙門取出零件。
真空等離子清洗機(jī)清洗工作流程示意圖真空等離子清洗機(jī)清洗工作流程及其示意圖00224486