根據(jù)等離子體作用下C2烴的產(chǎn)率，附著力促進(jìn)劑有哪些負(fù)載的過渡金屬氧化物的催化活性順序如下： Na2WO4 / Y-Al2O3> Cr2O3 / Y-Al2O3 ≈ Fe2O3 / Y-Al2O3> TiO2 / Y-Al2O3 ≈ NiO / Y-Al2O3 ≈ Mn2O3 / Y-Al2O3> Co2O3 / Y-Al2O3> ZnO / Y-Al2O3 ≈ MoO3 / Y-Al2O3 ≈ Re2O7 / Y-Al2O3 根據(jù) CO 產(chǎn)率的高低，負(fù)載的過渡金屬氧化物的催化活性順序如下： NiO / Y-Al2O3> TiO2 / Y-Al2O3> Re2O3 / Y-Al2O3 ≈ Fe2O3 / Y-Al2O3 ≈ Co2O3 / Y-Al2O3> MoO33 / Y-Al2O3 ≈ ZnO / Y-Al2O3 ≈ Mn2O3 / Y-Al2O3> Na2WO4 Y -Al2O3 ≈ Cr2O3 / Y-A12O3。

來自各種試劑和化學(xué)試劑的清洗液與金屬離子發(fā)生反應(yīng)，金屬附著力促進(jìn)劑有哪些形成金屬離子配合物，金屬離子配合物從晶圓表面分離。氧化物:當(dāng)半導(dǎo)體晶圓片暴露于氧和水時(shí)，在其表面形成天然的氧化物層。這種氧化膜不僅阻礙半導(dǎo)體制造的許多步驟，而且還含有金屬雜質(zhì)，在一定條件下可以轉(zhuǎn)移到芯片上形成電氣缺陷。這種氧化膜的去除通常通過在稀氫氟酸中浸泡來完成。

由于溫度與射頻功率成正比升高，金屬附著力促進(jìn)劑有哪些不同材料的溫度要求不同，金屬件一般沒有特殊要求，但要注意防止金屬氧化。等待溫度下降，防止非金屬變形。 (4)等離子清洗機(jī)的壓力在設(shè)備運(yùn)行期間，真空室中的壓力主要受漏氣率、膨脹率和泵速率的影響。對(duì)于要去除的各種材料和污染物，所需的壓力也不同。當(dāng)填充惰性惰性氣體（如氬氣或氮?dú)猓r(shí)，純化過程主要取決于離子的物理影響。此時(shí)，可以提高或降低泵速，以降低真空室內(nèi)的壓力。高能量對(duì)表面產(chǎn)生沖擊。

不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性質(zhì)，金屬附著力促進(jìn)劑有哪些如氧等離子體具有高氧化性，可以氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體，從而達(dá)到清洗的效果;腐蝕性氣體的等離子體具有良好的各向異性，因此可以滿足腐蝕的需要。當(dāng)使用等離子體時(shí)，會(huì)發(fā)出輝光，因此稱為輝光放電。等離子體清洗的機(jī)理主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化”來去除物體表面的污漬。

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等離子清洗機(jī)的清洗原理 及特點(diǎn)等離子清洗機(jī)的清洗原理是在真空腔體里，經(jīng)過射頻電源在必定的壓力情況下起輝發(fā)生高能量的無序的等離子體，經(jīng)過等離子體炮擊被清洗產(chǎn)品外表，以抵達(dá)清洗意圖。 在這種情況下，等離子處理能夠發(fā)生以下效果： 1、灰化外表有機(jī)層 污染物在真空和瞬時(shí)高溫下的部分蒸發(fā)，污染物被高能離子損壞并被真空帶走。 紫外輻射損壞污染物，因?yàn)榈入x子體處理每秒鐘只能穿透幾納米，所以污染層不應(yīng)該太厚。

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通常情況下，物質(zhì)以固態(tài)、商業(yè)態(tài)和氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊情況下可以以第四種狀態(tài)存在，比如太陽表面的物質(zhì)、地球大氣層電離層的物質(zhì)等。這類物質(zhì)的狀態(tài)稱為等離子體態(tài)，也稱為勢(shì)物質(zhì)的第四態(tài)。以下物質(zhì)存在于等離子體中。高速運(yùn)動(dòng)的電子；處于活化狀態(tài)的中性原子、分子和原子團(tuán)（自由基）；電離原子和分子；分子解離反應(yīng)過程中產(chǎn)生的紫外線；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)作為一個(gè)整體保持電中性。

(4)接觸時(shí)間:待清洗材料在等離子體中的接觸時(shí)間對(duì)清洗效果和等離子體工作效率有重要影響。接觸時(shí)間長，清洗效果比較好，但工作效率低。(5)傳輸系統(tǒng)速度:對(duì)于常壓等離子體清洗過程，連續(xù)傳輸系統(tǒng)會(huì)涉及到大型物體的處理。因此,慢的相對(duì)運(yùn)動(dòng)對(duì)象清洗電極,處理的效果就會(huì)越好,但太慢會(huì)影響工作效率,另一方面,另一方面,會(huì)導(dǎo)致材料的表面的損傷,導(dǎo)致延長處理時(shí)間。

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