等離子刻蝕機(jī)加工消除了彩盒開(kāi)口的封裝問(wèn)題。彩盒開(kāi)口處理裝置采用直噴等離子處理器。等離子蝕刻器用于產(chǎn)生含有大量氧原子的氧基活性物質(zhì)。通過(guò)在材料表面噴射含氧等離子體,二氧化鈦 表面羥基活化可以將附著在材料表面的有機(jī)污染物的碳分子分離成二氧化碳并去除。同時(shí),可以有效改善材料的表面接觸。提高強(qiáng)度和可靠性。銅版紙、上光紙、銅版紙、鍍鋁紙、浸漬紙板、UV涂層、OPP、聚丙烯、PET膜等包裝彩盒,被眾多客戶使用。
典型的等離子物理清洗工藝是氬等離子清洗。氬氣本身是惰性氣體,二氧化鈦 表面羥基活化等離子氬氣不與表面反應(yīng),但會(huì)通過(guò)離子沖擊清潔表面。典型的等離子化學(xué)清洗工藝是氧等離子清洗。等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?;钴S,很容易與碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng),生成二氧化碳、一氧化碳和水等揮發(fā)性化合物,從而去除表面污染物。 2、勵(lì)磁頻率的分類(lèi)等離子體態(tài)的密度與激發(fā)頻率的關(guān)系如下。
等離子體和十種催化劑對(duì)甲烷和二氧化碳的轉(zhuǎn)化有不同的影響:過(guò)渡金屬氧化物是工業(yè)催化劑中最重要的催化劑之一。過(guò)渡金屬氧化物的多相催化反應(yīng)通常是通過(guò)催化劑的酸堿反應(yīng)或氧化還原反應(yīng)來(lái)進(jìn)行的。甲烷(OCM)在普通催化和等離子體催化下的氧化偶聯(lián)結(jié)果表明:大多數(shù)過(guò)渡金屬氧化物催化劑具有一定的催化活性。結(jié)合以往等離子體催化甲烷脫氫的研究經(jīng)驗(yàn),二氧化鈦表面羥基活化選擇Mn、Fe、Co、Ni和W等過(guò)渡金屬,制備了負(fù)載型金屬氧化物催化劑。
自由基的作用主要表現(xiàn)在化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中的能量傳遞的“活化”作用,二氧化鈦表面羥基活化處于激發(fā)狀態(tài)的自由基具有較高的能量,因此易于與物體表面分子結(jié)合時(shí)會(huì)形成新的自由基,新形成的自由基同樣處于不穩(wěn)定的高能量狀態(tài),很可能發(fā)生分解反應(yīng),在變成較小分子的同時(shí)生成新的自由基,這種反應(yīng)過(guò)程還可能繼續(xù)進(jìn)行下去,最后分解成水,二氧化碳之類(lèi)的簡(jiǎn)單分子,在另一些情況下,自由基與物體表面分子結(jié)合的同時(shí),回釋放出大量的結(jié)合能,這種能量又成為引發(fā)新的表面反應(yīng)的推動(dòng)力,從而引發(fā)物體表面上的物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而被去除。
二氧化鈦表面羥基活化
低溫氧等離子體處理不僅可以提高材料的表面親水性,而且可以提高材料的表面電導(dǎo)率和附著力。因此,選擇合適的等離子體處理方法可以有效地改善材料的表面性能,方便人們的生產(chǎn)生活。。氧等離子體表面治療儀處理二氧化硅薄膜材料的過(guò)程是怎樣的?氧等離子體表面處理儀的等離子體工藝用于材料的輔助處理,其中氣相與固相表面的化學(xué)反應(yīng)起著關(guān)鍵作用。
此法流程簡(jiǎn)單,對(duì)原料適應(yīng)性強(qiáng),但電耗偏高,限制了它的大規(guī)模推廣。60年代,美國(guó)離子弧公司以鋯英砂為原料在直流電弧等離子體中一步裂解制備氧化鋯。70年代末,中國(guó)以硼砂和尿素為原料,在直流電弧等離子體中制備高純六方氮化硼粉,該法具有產(chǎn)品純度高、成本低、工藝流程簡(jiǎn)單等優(yōu)點(diǎn)。此外,還可利用等離子技術(shù)生產(chǎn)二氧化鈦。。
等離子清洗機(jī)表層處理技術(shù)工藝不但能夠清潔機(jī)殼在注塑成型時(shí)遺留下的油漬,更能最高程度上的活化塑料制品機(jī)殼表層,提升其進(jìn)行印刷、涂敷等黏結(jié)實(shí)際效果,促使機(jī)殼上鍍層與基材相互間十分牢固地聯(lián)接,涂敷實(shí)際效果十分均衡,外表更為鮮亮,同時(shí)耐磨性能很大程度上提升,長(zhǎng)期在使用也不會(huì)造成磨漆現(xiàn)像。
等離子清洗機(jī)(PLASMA CLEANER)又稱等離子刻蝕機(jī)、等離子脫膠機(jī)、等離子活化劑、等離子清洗機(jī)、等離子表面處理機(jī)、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子處理設(shè)備廣泛用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離子晶片分層、等離子鍍膜、等離子灰化、等離子活化、等離子表面處理。
二氧化鈦表面羥基活化
氬等離子清洗機(jī)的表面張力大大提高?;钚詺怏w產(chǎn)生的等離子體也可以增加表面粗糙度,二氧化鈦 表面羥基活化但氬氣電離產(chǎn)生的粒子比較重,而且氬離子在電場(chǎng)作用下的動(dòng)能要高得多。活性氣體的作用越來(lái)越明顯,被廣泛應(yīng)用于無(wú)機(jī)基材的表面粗化處理。玻璃基板表面處理、金屬基板表面處理等③ 活性氣體支撐等離子清潔器活化和清潔過(guò)程通常使用工藝氣體的組合來(lái)獲得更好的結(jié)果。由于氬氣的分子比較大,電離后產(chǎn)生的顆粒在表面清洗和活化時(shí)一般會(huì)與活性氣體混合。
五、等離子涂鍍聚合在涂鍍中兩種氣體同時(shí)進(jìn)入反應(yīng)艙,二氧化鈦 表面羥基活化氣體在等離子環(huán)境下匯聚合。這種應(yīng)用比活化和清潔的要求要嚴(yán)格一些。典型的應(yīng)用是保護(hù)層的形成,應(yīng)用于燃料容器、防刮表面、類(lèi)似PTFE材質(zhì)的涂鍍、防水涂鍍等。涂鍍層非常薄,通常為幾個(gè)微米,此時(shí)表面的親和力非常好。