目前廣泛采用的工藝主要是等離子體處理器工藝，油墨上的附著力是什么作用工藝簡單、環(huán)保、清洗效果顯著，對于孔槽結構非常合理。等離子體處理器是指高度活化的等離子體在電場作用下定向運動，與孔壁鉆孔污物發(fā)生氣固兩相流化學反應，同時通過氣泵排出局部未反應的氣體產(chǎn)物和顆粒。

表面反應主要是物理作用，油墨上的附著力是什么作用等離子體清洗常用氬氣，無氧化副產(chǎn)物，蝕刻各向異性。一般情況下，等離子體表面改性過程中化學反應和物理作用并存，以獲得更好的選擇性、均勻性和方向性。由于工業(yè)領域向精密化、小型化方向發(fā)展，等離子體表面改性技術憑借其精細清潔、無損改性等優(yōu)勢，將在半導體工業(yè)、芯片工業(yè)、航空航天等高新技術產(chǎn)業(yè)中具有越來越重要的應用價值。

C、電子與物體表面的作用一方面對物體表面的撞擊作用，附著力是指什么意思可促使吸附在物體表面的氣體分子發(fā)生分解或吸附，另一方面大量的電子撞擊有利引發(fā)化學反應。由于電子質(zhì)量極小，因此比離子的移動速度要快得多。當進行等離子體處理時，電子要比離子更早到達物體表面，并使表面帶有負電荷，這有利于引發(fā)進一步反應。

　在線式等離子體清洗機的主要結構包括:上下料推料組織、上下料置取料渠道、上下料前進系統(tǒng)、上下料傳輸系統(tǒng)、上下料撥料組織、反應倉、設備主體結構和電氣控制系統(tǒng)等?！　〉入x子體：等離子體是由離子、電子、自在激進分子、光子以及中性粒子組成的正離子和電子密度大致持平的電離氣體, 整體呈電中性。

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等離子表面處理機為了準確控制蝕刻過程和改善蝕刻結果，原子層蝕刻技術被開發(fā)并研究。盡管原子層蝕刻技術在二十幾年前已經(jīng)被報道，但是其蝕刻速率相對于傳統(tǒng)蝕刻技術相對較慢，較低的蝕刻工藝產(chǎn)量制約了它在半導體制造業(yè)中的應用。但是隨著三維結構鰭式晶體管技術的發(fā)展，等離子表面處理機原子層刻蝕技術均勻性，超高的選擇等突出優(yōu)勢，使得其在一些關鍵刻蝕工藝中得到了很好的應用。

CF4和O2輸入至等離子機真空腔體后，在等離子發(fā)生器的高頻高壓電場作用下，CF4，O2氣體發(fā)生離解或相互作用生成含有自由基，原子，分子及電子的等離子氣體氛：O2+CF4→O+OF+CO+COF+F+e+...等離子體中的自由基，正離子與孔壁上高分子有機材料（C、H、O、N）發(fā)生化學反應。

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